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引言5 y2 _. F( G9 U$ V& K8 F2 S
量子點(diǎn)(QDs)已成為集成量子光電子線路中片上單光子源的有前途候選者。然而,在單個(gè)芯片上使用多個(gè)量子點(diǎn)的主要挑戰(zhàn)之一是發(fā)射波長的固有變化。本文探討了創(chuàng)新方法,使用表面聲波(SAWs)動(dòng)態(tài)調(diào)諧集成到混合薄膜鈮酸鋰光電子平臺(tái)中的納米線量子點(diǎn)的發(fā)射波長[1]。 q6 h, v% }4 F7 Q o+ c& F" v. u) N2 |
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+ V% \, H( U2 r" X4 X9 ^! c表面聲波的力量
+ X# p3 L4 g, z6 A表面聲波是沿材料表面?zhèn)鞑サ臋C(jī)械波。在量子技術(shù)領(lǐng)域,表面聲波顯示出控制各種量子系統(tǒng)(包括量子點(diǎn))的巨大潛力。通過將表面聲波耦合到量子點(diǎn),研究人員可以調(diào)制量子點(diǎn)的能級,從而動(dòng)態(tài)改變發(fā)射波長。7 q9 U7 D5 f9 X5 L* _# T2 W
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圖1:(a) 兩條用于獨(dú)立聲學(xué)調(diào)制的聲學(xué)延遲線的光學(xué)顯微鏡圖像。(b) 波導(dǎo)內(nèi)納米線的掃描電子顯微鏡圖像。(c) 集成納米線的掃描電子顯微鏡圖像,橫截面顯示光學(xué)模式分布。(d) 剪切表面聲波模式的位移剖面。(e) 表面聲波產(chǎn)生的應(yīng)變剖面。(f) 400 MHz激發(fā)的表面聲波位移場。
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- v8 @6 V+ U+ h% s) W7 [0 j# K混合量子光電子平臺(tái)* b" S4 K M8 c6 s$ D3 Z
為了展示基于表面聲波調(diào)制的威力,研究人員開發(fā)了一種混合量子光電子平臺(tái)。該平臺(tái)將InAsP/InP納米線量子點(diǎn)集成到薄膜鈮酸鋰芯片上。選擇鈮酸鋰很重要,因?yàn)槠鋸?qiáng)烈的壓電性能可以高效產(chǎn)生表面聲波。$ W3 ~/ L5 O! `6 z6 q! n3 _( D
6 M3 v* ]; D6 B) o6 v3 ~納米線被精確定位并集成到Si3N4加載的波導(dǎo)中。這種混合方法結(jié)合了納米線量子點(diǎn)的出色量子發(fā)射特性和鈮酸鋰平臺(tái)的強(qiáng)大光電子功能。
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聲學(xué)延遲線和聚焦叉指換能器
, p. g; Q( a7 r$ }該系統(tǒng)的關(guān)鍵組件是聲學(xué)延遲線,由兩個(gè)相對的聚焦叉指換能器(FIDTs)組成。這些FIDTs被設(shè)計(jì)用于在量子點(diǎn)所在的特定點(diǎn)生成和聚焦表面聲波。通過向FIDTs施加射頻(RF)信號(hào),研究人員可以創(chuàng)建精確控制的聲波與量子點(diǎn)相互作用。
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圖2:(a) 未調(diào)制時(shí)QD1的光致發(fā)光譜。(b) 單個(gè)表面聲波引起的測量光學(xué)調(diào)制。(c) 兩個(gè)反向傳播表面聲波對最亮發(fā)射峰的光學(xué)調(diào)制。(d) 應(yīng)變引起的能量分裂與相對相位的關(guān)系。
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波長調(diào)制演示
& C" @0 [" J$ x+ }! t9 H% ^$ \研究人員通過調(diào)制單個(gè)量子點(diǎn)的發(fā)射波長展示了方法的有效性。通過向一個(gè)FIDT施加400 MHz的射頻信號(hào),在13 dBm功率下實(shí)現(xiàn)了0.70 nm的峰峰值波長調(diào)制。這種顯著的調(diào)制展示了表面聲波用于微調(diào)量子點(diǎn)發(fā)射特性的潛力。) x! b9 L$ E% f R
$ ]. |6 q- D E6 ^ ], e利用聲學(xué)腔增強(qiáng)調(diào)制4 R7 ?( Q6 S8 N9 i
為進(jìn)一步提高調(diào)制能力,研究團(tuán)隊(duì)探索了同時(shí)使用兩個(gè)FIDTs。通過驅(qū)動(dòng)兩個(gè)換能器,他們創(chuàng)建了反向傳播的表面聲波,形成駐波模式。這種方法有效地將調(diào)制幅度翻倍,達(dá)到了令人印象深刻的1.4 nm峰峰值移動(dòng)。# P9 k, k0 T3 i0 S9 T" C- W) D1 Q
! f$ b) w" Q- E驅(qū)動(dòng)兩個(gè)FIDTs的射頻信號(hào)之間的相位差在這種增強(qiáng)調(diào)制中起著關(guān)鍵作用。當(dāng)信號(hào)同相時(shí),納米線位于駐波的波腹處,最大化應(yīng)變效應(yīng)。相反,信號(hào)之間的π相移可以完全抑制調(diào)制。
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圖3:(a) QD1和QD2的應(yīng)變引起的譜線展寬與射頻功率的關(guān)系。(b) 無表面聲波和有表面聲波調(diào)制時(shí)QD1和QD2的發(fā)射峰。(c) 集成到光電子平臺(tái)中的兩個(gè)可應(yīng)變調(diào)諧納米線量子點(diǎn)的表現(xiàn)。
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. C0 }: Y7 S; I/ }5 S0 {多個(gè)量子點(diǎn)的獨(dú)立調(diào)制0 R/ l7 m1 J/ W) j' c
這項(xiàng)研究最令人興奮的方面之一是在同一芯片上對兩個(gè)獨(dú)立量子點(diǎn)進(jìn)行調(diào)制的演示。研究團(tuán)隊(duì)選擇了兩個(gè)初始發(fā)射波長相差0.5 nm的納米線量子點(diǎn)(QD1和QD2)。通過向與每個(gè)量子點(diǎn)相關(guān)的FIDTs施加適當(dāng)?shù)纳漕l信號(hào),他們能夠在每個(gè)聲學(xué)周期內(nèi)將兩個(gè)量子點(diǎn)的發(fā)射波長調(diào)至共同點(diǎn)。
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. w2 d6 Q+ @ Y! i4 L這一成就是朝著在單個(gè)光電子芯片上從多個(gè)遠(yuǎn)程發(fā)射器產(chǎn)生不可區(qū)分單光子邁出的重要一步 - 這是許多量子信息處理應(yīng)用的關(guān)鍵要求。; t' o' T& X0 W9 n. d. W' C
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0 L6 q- C+ b4 r- b& Z挑戰(zhàn)和未來方向
" [2 E3 E" Q, v盡管結(jié)果很有希望,但仍有挑戰(zhàn)需要克服。目前的調(diào)制范圍雖然令人印象深刻,但可能不足以解決量子點(diǎn)集合中通常觀察到的全部波長變化。
: |: Q8 s8 ]5 ]1 O5 P# `& u研究人員提出了幾個(gè)改進(jìn)方向:增加射頻功率:必須仔細(xì)考慮更高功率下的潛在加熱效應(yīng)。使用較低電阻率的金屬制作FIDT電極以減少歐姆損耗。優(yōu)化量子點(diǎn)在聲學(xué)腔中的位置以最大化應(yīng)變效應(yīng)。探索釋放鈮酸鋰層以增強(qiáng)機(jī)械約束。
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此外,雖然將量子點(diǎn)調(diào)至共同波長很重要,但確保發(fā)射光子的高不可分辨性仍然是一個(gè)挑戰(zhàn)。未來工作中需要考慮匹配輻射速率和實(shí)現(xiàn)傅里葉變換限制發(fā)射等因素。3 R5 i2 m+ |& V
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% @% X* Z6 A# G; R1 Q與光電子線路集成
2 [) P: |* s& v這項(xiàng)研究的最終目標(biāo)是將這些表面聲波調(diào)制的量子點(diǎn)集成到功能性量子光電子線路中。研究團(tuán)隊(duì)設(shè)想使用可調(diào)諧環(huán)形諧振器或其他過濾機(jī)制來選擇和路由芯片內(nèi)的調(diào)制光子。( e0 S; ~5 y4 O2 J* y X6 M8 O; ^
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結(jié)論) h! P2 j% z& p0 Y
集成到混合薄膜鈮酸鋰平臺(tái)中的納米線量子點(diǎn)的聲學(xué)調(diào)制代表了集成量子光電子技術(shù)領(lǐng)域的重大進(jìn)展。通過利用表面聲波的力量,研究人員展示了有前途的方法,解決了在單個(gè)芯片上使用多個(gè)量子點(diǎn)的關(guān)鍵挑戰(zhàn)之一。
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參考文獻(xiàn)( I% d9 F3 ^$ M% x, w) V* R
[1] T. Descamps et al., "Acoustic Modulation of Individual Nanowire Quantum Dots Integrated into a Hybrid Thin-Film Lithium Niobate Photonic Platform," Nano Lett., 2024, doi: 10.1021/acs.nanolett.4c03402.3 t3 M- q6 m" p$ q% I# w
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2 n8 @: B+ ^" d$ B9 _3 S+ V, \ U Z轉(zhuǎn)載請注明出處,請勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!) q5 s. k% K. j
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深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。' N7 ]) Q" Q" t0 ~5 Z
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