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9 R9 l( H2 q* r% [ `& K6 b5 W6 U南智光電攜手逍遙科技更新了晶圓級薄膜鈮酸鋰器件工藝開發(fā)包(Process Design Kit,簡稱PDK)2.0版本。這次更新在1.0版本的基礎(chǔ)上進行了全面升級,優(yōu)化了器件性能,并提供了更豐富的可調(diào)參數(shù)器件庫。1 N3 X' w" |; B: u: f1 `
: v/ I3 s) H' Y" c0 A- y, aPDK 2.0的主要更新
% v* U7 o5 J* y5 Q包括元件命名簡化、材料層修改、傳輸元件標識優(yōu)化、設(shè)計范圍標記功能、新增MZI元件、調(diào)制器設(shè)計優(yōu)化、微環(huán)元件添加、熱調(diào)節(jié)元件引入、Z傳輸組件增加以及邊緣耦合器的更新和端口放置限制等多個方面。& R$ H" i. _6 L: P
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南智光電的PDK基于逍遙科技的PIC Studio,為用戶提供了標準化的設(shè)計工具庫。這個PDK不僅規(guī)范和定義了包括調(diào)制器在內(nèi)的各種關(guān)鍵器件的加工信息,還包括了材料參數(shù)、工藝步驟和測試標準等詳細信息。這些細節(jié)為制造環(huán)節(jié)提供了明確的指導(dǎo),有助于提高產(chǎn)品的一致性和可靠性。: f3 ^) m" P9 e) v7 T; S* c$ C; \
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* u( z$ T% n6 ~+ U" lPDK 2.0的發(fā)布標志著南智光電平臺在光電子芯片產(chǎn)線標準化代工流片能力方面取得了顯著進步。這一升級為設(shè)計者提供了更多工具和可能性,使得更復(fù)雜、更高性能的光電子芯片設(shè)計成為可能。4 G7 z/ z& n; |* ^2 l: y2 W$ m/ ~
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% V4 X* H) D0 b3 ?9 I" }8 bPDK 2.0更新反映了光電子技術(shù)領(lǐng)域的快速發(fā)展,展示了南智光電在推動光電子芯片設(shè)計和制造標準化方面的努力。通過提供更全面、更靈活的設(shè)計工具,南智光電攜手逍遙科技正在為光電子產(chǎn)業(yè)的進步做出貢獻。( ^; B; f2 J: i
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歡迎聯(lián)系我們以獲取更多關(guān)于南智光電PIC Studio PDK 2.0的詳細信息或技術(shù)支持。我們期待與您合作,共同推進光電子芯片設(shè)計的創(chuàng)新與發(fā)展。$ n# K+ }: h1 w% y
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軟件申請我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請體驗免費版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。
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% \5 x( ~) f$ W: c2 o- Q8 }深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計自動化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對光電芯片、微機電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
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