Latitude PDK | 南智光電與逍遙科技聯(lián)合更新PIC Studio PDK 2.0

逍遙設(shè)計自動化

. X9 x8 N- P% B& V) `2 B南智光電攜手逍遙科技更新了晶圓級薄膜鈮酸鋰器件工藝開發(fā)包（Process Design Kit，簡稱PDK）2.0版本。這次更新在1.0版本的基礎(chǔ)上進(jìn)行了全面升級，優(yōu)化了器件性能，并提供了更豐富的可調(diào)參數(shù)器件庫。

( E) R+ ~. s7 d/ ]; G1 ?PDK 2.0的主要更新
8 Q2 q7 g3 b, D4 w2 N% }& m包括元件命名簡化、材料層修改、傳輸元件標(biāo)識優(yōu)化、設(shè)計范圍標(biāo)記功能、新增MZI元件、調(diào)制器設(shè)計優(yōu)化、微環(huán)元件添加、熱調(diào)節(jié)元件引入、Z傳輸組件增加以及邊緣耦合器的更新和端口放置限制等多個方面。

  ]/ c, [7 S7 x7 Z南智光電的PDK基于逍遙科技的PIC Studio，為用戶提供了標(biāo)準(zhǔn)化的設(shè)計工具庫。這個PDK不僅規(guī)范和定義了包括調(diào)制器在內(nèi)的各種關(guān)鍵器件的加工信息，還包括了材料參數(shù)、工藝步驟和測試標(biāo)準(zhǔn)等詳細(xì)信息。這些細(xì)節(jié)為制造環(huán)節(jié)提供了明確的指導(dǎo)，有助于提高產(chǎn)品的一致性和可靠性。

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PDK 2.0的發(fā)布標(biāo)志著南智光電平臺在光電子芯片產(chǎn)線標(biāo)準(zhǔn)化代工流片能力方面取得了顯著進(jìn)步。這一升級為設(shè)計者提供了更多工具和可能性，使得更復(fù)雜、更高性能的光電子芯片設(shè)計成為可能。

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PDK 2.0更新反映了光電子技術(shù)領(lǐng)域的快速發(fā)展，展示了南智光電在推動光電子芯片設(shè)計和制造標(biāo)準(zhǔn)化方面的努力。通過提供更全面、更靈活的設(shè)計工具，南智光電攜手逍遙科技正在為光電子產(chǎn)業(yè)的進(jìn)步做出貢獻(xiàn)。
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( k7 N: B/ @  H歡迎聯(lián)系我們以獲取更多關(guān)于南智光電PIC Studio PDK 2.0的詳細(xì)信息或技術(shù)支持。我們期待與您合作，共同推進(jìn)光電子芯片設(shè)計的創(chuàng)新與發(fā)展。
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) Y- Z. [3 R/ E! d: ~軟件申請我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請體驗免費版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用，PIC Studio都可提升您的工作效能。
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